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반도체 고종횡비 컨택홀 식각 공정에서 발생하는 식각 중단 현상과 효율 저하는 3D V-NAND 제조의 큰 난제입니다. 본 기술은 식각 부산물의 특정 광신호를 기반으로 듀티 사이클 등 제어 변수를 실시간 조정하는 적응형 펄스 공정 장치 및 방법을 제공합니다. 이를 통해 식각 효율을 극대화하고 식각 중단 현상을 해결하여, 반도체 생산성 향상에 기여합니다. 국가 핵심 산업의 기술적 우위를 선점하는 데 이바지합니다.
| 기술 분야 | 반도체 식각 공정 |
| 판매 유형 | 자체 판매 |
| 판매 상태 | 판매 중 |
| 기술명 | |
| 고종횡비 컨택홀 식각 공정에 적용 가능한 적응형 펄스 공정 장치 및 방법, 이를 구현하기 위한 프로그램이 저장된 기록매체 및 이를 구현하기 위해 매체에 저장된 컴퓨터프로그램 | |
| 기관명 | |
| 충남대학교 | |
| 대표 연구자 | 공동연구자 |
| 유신재 | - |
| 중요 키워드 | |
반도체 제조 기술광신호 피드백식각 중단 해결식각률 제어3D V-NAND 공정메모리 반도체적응형 펄스컨택홀 식각고단화 기술고종횡비 식각플라즈마 식각듀티 사이클공정 효율 증대차세대 반도체반도체 장비디지털신호반도체제조 | |
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