AI요약

본 기술은 기존 포토리소그래피 공정의 해상도 저하 및 패턴 균일성 문제를 해결하고자 개발되었습니다. 파릴렌 유도체로부터 제조된 신규 고분자를 활용하여, 반도체 제조에 필수적인 미세패턴을 효율적으로 형성하는 포토리소그래피 방법을 제공합니다. 특히 화학 기상 증착(CVD) 공정을 통해 다양한 기판에 고품질의 포토레지스트 박막을 형성할 수 있으며, 포지티브 또는 네거티브 패턴을 정밀하게 구현합니다. 이 혁신적인 기술은 반도체 산업의 소형화 및 집적화 요구에 부응하며, 미세패턴 형성의 정밀도와 효율성을 크게 향상시킵니다.