한양대-에스엔에스텍, EUV(극자외선) 노광공정용 펠리클과 마스크개발 위한 특허권 확보

㈜에스엔에스텍(대표 정수홍)은 차세대 반도체 제조기술의 핵심인 EUV(극자외선) 노광공정용 펠리클과 마스크 개발을 위해 한양대학교의 특허권에 대한 전용실시권을 확보하였다.

(주)에스엔에스텍은 마스크개발을 위한 제품개발이 한창이다.

급성장하는 EUV 관련 소재 및 부품에 대한 본격적인 사업 추진을 통해 시가총액 1조원 규모의 기업으로 성장하였으며, 수요기업으로부터 660억 규모의 투자를 유치했다.