반도체 소자 특성의 균일도를 향상시키는 3차원 반도체 제조장치
출원번호
1020200057178
등록번호
1023745880000
권리구분
특허권
권리기간
2020-05-13 ~ 2040-05-13
문의처
070-8065-4613
기관의 인기특허
기술 정보
발명명칭
3차원 반도체 장치 및 이의 제조 방법
기술분야
3차원 반도체 장치
거래방식
#특허판매#노하우#라이선스#연구협력
매도가격
가격 협의
문의처
070-8065-4613
기술 소개
기술 요약
- 본 개시는 3차원 반도체 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. 일 실시 에에 의하면, 3차원 반도체 장치의 제조 방법은 기판 상에 교대로 적층되는 복수개의 절연막들 및 복수개의 희생막들을 포함하는 수직 적층체를 형성하는 단계; 상기 형성된 수직 적층체를 식각함으로써 상기 수직 적층체 내 제1 오프닝 및 상기 기판 내 리세스 영역을 생성하는 단계; 상기 제1 오프닝의 측벽 상 일부에 제1 게이트 전극을 형성하는 단계; 상기 수직 적층체를 식각함으로써 상기 수직 적층체 내 상기 기판을 노출시키는 제2 오프닝을 형성하는 단계; 및 상기 형성된 제2 오프닝의 측벽 상 상기 제1 게이트 전극에 대응되는 영역에 제2 게이트 전극을 형성함으로써 워드 라인을 형성하는 단계; 를 포함할 수 있다.
매도/수 절차
절차과정
연구자의 보유기술
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