임피던스 매칭을 최소화하는 진공 플라즈마 처리기
출원번호
1020200010244
등록번호
권리구분
특허권
권리기간
2020-01-29 ~ 2040-01-29
문의처
055-320-3923
기관의 인기특허
기술 정보
발명명칭
중주파 전원을 이용한 진공 플라즈마 처리장치
기술분야
거래방식
#특허판매#노하우#라이선스#연구협력
매도가격
가격 협의
문의처
055-320-3923
기술 소개
기술 요약
- 본 발명은 플라즈마 처리장치에 대한 것으로, 외부와 독립되어 소정의 밀폐된 공간을 제공하는 반응챔버와, 반응가스를 상기 반응챔버에 소정의 압력으로 공급하는 반응가스 공급부와, 상기 반응챔버에서 반응이 완료된 반응가스를 배출하는 반응가스 배출부와, 상기 반응챔버 내에 중주파 전원을 공급하기 위한 중주파 전원 장치와, 상기 중주파 전원 장치와 각각 연결되며, 상기 반응챔버 내부에서 서로 대향되도록 설치되는 2개의 전극을 포함함으로써, 중주파 전원 장치를 진공 반응기내부에 설치한 두 개의 전극에 결합하여 진공 플라즈마를 발생시켜 시스템 내부나 공정 조건을 변화시켜도 플라즈마를 쉽게 발생시킬 수 있어 사용자의 조건 선택 자유도가 더 커서 활용도가 높고, 플라즈마 발생을 위한 임피던스 매칭을 위해 추가적인 매칭 네트워크가 필요 없는 중주파 플라즈마를 사용하여 경제적으로 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.
매도/수 절차
절차과정