양방향 RF 플라즈마 모듈을 포함하는 어닐 시스템
출원번호
1020110000635
등록번호
1012490850000
권리구분
특허권
권리기간
2013-03-25 ~ 2033-03-25
문의처
041-540-5241
기관의 인기특허
기술 정보
발명명칭
양방향 RF 플라즈마 모듈을 포함하는 어닐 시스템
기술분야
생산기반
거래방식
#특허판매#노하우#라이선스#연구협력
매도가격
가격 협의
문의처
041-540-5241
기술 소개
특허요약
- 본 발명은 히터의 열에너지와 플라즈마 에너지를 선택적으로 이용하여 퍼니스의 챔버 온도를 상승시키거나 히터의 열에너지와 플라즈마 에너지를 합하여 상승시키는 어닐 시스템을 개시(introduce)한다. 상기 어닐 시스템은, 퍼니스, 히터제어부 및 양방향 RF 플라즈마 모듈을 포함한다. 상기 퍼니스는 챔버의 온도를 상승시키는데 사용되는 히터 및 2개의 RF 플라즈마 안테나를 포함한다. 상기 히터제어부는 상기 퍼니스의 챔버의 온도를 상승시키는데 사용되는 히터의 동작을 제어한다. 상기 양방향 RF 플라즈마 모듈은 RF 전력을 생성하고, 생성된 RF 전력을 상기 2개의 RF 플라즈마 안테나 각각에 분배/공급한다. 여기서 상기 2개의 RF 플라즈마 안테나는 상기 퍼니스의 마주 보는 방향에 분리되어 설치된다.
기술가치
- 챔버 내에 놓인 웨이퍼가 처리되는 동안 고온에 노출되는 시간을 감소시켜 불순물을 줄이고 밀도를 향상시킬 수 있도록 현저하게 개선된 개량의 정도가 크고, 권리적인 측면에서는 도입기의 기술로 평가대상 특허기술의 핵심내용을 포함하여 청구항이 잘 기재되어 있는 특성
시장가치
- 기적인 관점에서 상용화가 될 가능성이 있으며 관련 산업에 대한 파급 효과가 클 것으로 판단
대상기업
- 히터의 열에너지와 플라즈마 에너지를 선택적으로 이용하여 퍼니스의 챔버 온도를 상승시키거나 히터의 열에너지와 플라즈마 에너지를 합하여 상승시키는 용도로 어닐 시스템 제품이나 서비스를 개발중인 _배치 방식 어닐 장치나 급속 열처리 방식 어닐 장치 업체가 대상
매도/수 절차
절차과정
연구자의 보유기술
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