플라즈마 식각 공정 종료점 검출방법
출원번호
1020140096627
등록번호
1015885310000
권리구분
특허권
권리기간
2014-07-29 ~ 2034-07-29
문의처
031-290-5085
기관의 인기특허
기술 정보
발명명칭
플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출방법
기술분야
플라즈마, 패턴인식 분야
거래방식
#특허판매#노하우#라이선스#연구협력
매도가격
가격 협의
문의처
031-290-5085
기술 소개
기술개요
- 식각 종료점을 검출하는 기술
- 반도체 및 디스플레이 제조공정에 전반적으로 사용되는 식각장비에 적용할 수 있는 기술
- 추가장비 없이 장비 내부에서 발생하는 빛의 스펙트럼 분석 통해 식각 종료점 검출 가능
- 실시간으로 식각 종료점을 검출하는 기술
- 플라즈마 반응기 내에서 발생하는 빛, 주파수, 고조파의 전압, 위상차 등 다양한 전기적 신호를 기반으로 분석하기 때문에 실시간으로 식각 종료점 검출 가능
- 공정진단, 모니터링 및 이상진단 민감도까지 실시간으로 확인할 수 있음
기술의 특징
- 다변량 분석을 통해 민감도 향상
- 다변량 분석기법을 통해 실시간 공정 진단이 가능하며, 동시에 이상진단의 민감도까지 향상됨
- 다차원 데이터 정보 손실 최소화 및 축약 가능
- 실시간 식각 종료점 검출
- 지속적인 주성분 분석과 데이터 값의 변화를 관찰하여 실시간 식각 종료점 검출이 가능
- 그래프 분석으로 식각 종료점을 정확하게 확인할 수 있어 공정을 제어할 수 있음
기술활용분야 및 시장
- 기술 활용 가능한 응용분야
- 플라즈마, 패턴인식 분야
- 구체적인 적용제품
- 반도체 및 디스플레이 플라즈마 식각 공정장비 전반
관련특허 현황
- 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법 (특허번호 : 10-1529827)
- 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출방법 (특허번호 : 10-1588531)
- 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 진단방법(특허번호 : 10-1532897)
- 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단방법 (특허번호 : 10-1895707)
매도/수 절차
절차과정
연구자의 보유기술
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